氯化胆碱-尿素低共熔溶剂中电沉积镍磷合金镀层的研究

• 作者: 张春霞 张雅琴 耿乐乐 郭天霞 崔琳琳 孙海静
• 来源期刊: 辽宁化工
• 关键词: 低共熔溶剂 ChCl-Urea 电沉积 Ni-P合金镀层
• 年，卷（期）: 2023,（12）
• 所属期刊栏目: 科学研究
• 页码范围: 1682-1686
• 页数: 4页
• 分类号: TQ153.2
• 语种: 中文

摘要

在氯化胆碱-尿素（ChCl-Urea）低共熔溶剂中电沉积制备镍磷合金镀层。采用循环伏安法和计时电流法对在ChCl-Urea-NiCl2-NaH2PO2镀液中镍磷合金镀层的电沉积机理进行研究，使用扫描电子显微镜（SEM/EDS）和X射线衍射（XRD）对实验制备的镀层进行微观形貌及物相组成的表征，利用动电位极化曲线对其耐腐蚀性能进行分析。结果表明：ChCl-Urea低共熔溶剂的电化学窗口为2.67V，镍磷合金镀层在ChCl-Urea-NiCl2-NaH2PO2镀液中为不可逆的一步还原，成核机理属于典型的扩散控制三维成核生长，得到的镀层平整致密，且具有金属光泽，对基体金属具有一定的保护作用。