薄膜科学与技术1991年第1期出版文献-钛学术文献服务平台

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薄膜科学与技术

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主办单位：

南京电子器件研究所

ISSN：

CN：

出版周期：

双月刊

邮编：

210016

地址：

南京1601信箱43分箱

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1. 溅射不锈钢涂层的结构与性能

作者：楼翰一王福会

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1991年1期

页码: 1-6

摘要：
2. 射频溅射制备LNBN介电薄膜

作者：孟中岩李慧峰

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1991年1期

页码: 7-15

摘要：
3. 静电探针在PCVD制备类金刚石膜中的应用

作者：詹如娟高克林

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1991年1期

页码: 16-21

摘要：
4. a—C1—xClx：H薄膜的红外谱及介电谱

作者：侯冰玉田党宏

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1991年1期

页码: 22-28

摘要：
5. 离子镀膜生长过程的电镜研究

作者：万立骏

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1991年1期

页码: 29-34

摘要：
6. 反应离子刻蚀的均匀性

作者：李晓明

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1991年1期

页码: 35-39

摘要：
7. PECVD法制备碳氮化硅薄膜的性质

作者：张克云陈振昌

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1991年1期

页码: 40-43

摘要：
8. 四—4—（2,4—二特戊基苯氧基）酞菁铜L—B薄膜的成膜质量及表面形貌

作者：吕安德庞小敏

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1991年1期

页码: 44-51

摘要：
9. 氩气压强和本底真空度对磁控溅射黄铜薄膜红外发射率的影响

作者：宋刚战余英

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1991年1期

页码: 52-55

摘要：
10. 用改进的电子束蒸发法淀积的SnO2薄膜的性质

作者：晏继文石自光

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1991年1期

页码: 56-61

摘要：
11. X射线静电摄像用硒光敏膜的制备

作者：江宗壁黄锡森

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1991年1期

页码: 62-65

摘要：
12. 用射频溅射法研制ZrO2薄膜

作者：张之圣王文生

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1991年1期

页码: 66-69

摘要：
13. LB膜对GOD酶的吸附

作者：朱平李永根

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1991年1期

页码: 70-75

摘要：
14. MOCVD GaAs／Si结晶质量的研究

作者：李玉琴杜明泽

刊名：薄膜科学与技术

发表期刊： 1991年1期

页码: 76-81

摘要：

薄膜科学与技术基本信息

刊名	薄膜科学与技术	主编
曾用名
主办单位	南京电子器件研究所	主管单位
出版周期	双月刊	语种
ISSN		CN
邮编	210016	电子邮箱
电话		网址
地址	南京1601信箱43分箱

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