论文降重
免费查重
推荐文章
反应离子刻蚀的模型及仿真
反应离子刻蚀(RIE)
二维模型
线算法和元胞算法的混合算法
计算机仿真
硅的反应离子刻蚀实验研究
反应离子刻蚀
硅
刻蚀速率
选择比
均匀性
氮化硅的反应离子刻蚀研究
反应离子刻蚀
氮化硅
刻蚀气体
优化
反应离子刻蚀中的边缘效应及其补偿办法
反应离子刻蚀
高功率
均匀性
边缘效应
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献 (0)
共引文献 (0)
参考文献 (0)
节点文献
引证文献 (0)
同被引文献 (0)
二级引证文献 (0)
1991(0)
- 参考文献(0)
- 二级参考文献(0)
- 引证文献(0)
- 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
反应离子刻蚀
均匀性
晶片
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
薄膜科学与技术
主办单位：
南京电子器件研究所
出版周期：
双月刊
ISSN：
CN：
开本：
出版地：
南京1601信箱43分箱
邮发代号：
创刊时间：
语种：
出版文献量（篇）
327
总下载数（次）
1
总被引数（次）
0
期刊文献
相关文献
推荐文献
- 期刊分类
- 期刊（年）
- 期刊（期）
- 期刊推荐
