反应离子刻蚀的模型及仿真

• 作者: 周再发 朱赤 李伟华
• 来源期刊: 中国机械工程
• 学科: 工学
• 关键词: 反应离子刻蚀(RIE) 二维模型 线算法和元胞算法的混合算法 计算机仿真
• 年，卷（期）: 2005,（z1）
• 所属期刊栏目: 微纳系统设计理论与CAD技术
• 页码范围: 255-257
• 页数: 3页
• 分类号: TN405
• 字数: 1511字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-132X.2005.z1.089

摘要

介绍了反应离子刻蚀的二维模型,模型包括各项同性刻蚀和各向异性刻蚀两部分.为模拟反应离子刻蚀过程中材料的表面轮廓,采用线算法和元胞算法的混合算法,用C++编写计算机模拟软件.模型中的参数随反应离子刻蚀工艺参数的变化而变化,由实验提取.软件可以模拟任意起始条件下不同材料的刻蚀形貌.给出的模拟结果与实验结果吻合.