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薄膜科学与技术期刊
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薄膜科学与技术1991年第3期出版文献
出版文献量(篇)
327
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1
总被引数(次)
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薄膜科学与技术
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投稿
主办单位:
南京电子器件研究所
ISSN:
CN:
出版周期:
双月刊
邮编:
210016
地址:
南京1601信箱43分箱
出版文献量(篇)
327
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目录
1.
真空微电子学的进展
作者:
彭自安 陈其略
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1991年3期
页码: 
1-8
摘要:
2.
CVD金刚石薄膜的应用和市场前景
作者:
蒋翔六
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1991年3期
页码: 
9-14
摘要:
3.
光学薄膜技术展望
作者:
韩丽瑛
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1991年3期
页码: 
15-19
摘要:
4.
离子束增强沉积薄膜合成及其在材料表面优化中的应用
作者:
柳襄怀 邹世昌
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1991年3期
页码: 
21-30
摘要:
5.
载能离子束与薄膜科学
作者:
柳百新
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1991年3期
页码: 
31-34
摘要:
6.
磁光存贮技术的现状和未来
作者:
沈德芳
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1991年3期
页码: 
35-43
摘要:
7.
微波多极场ECR等离子体镀膜技术—原理和应用
作者:
宁兆元 张燕陵
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1991年3期
页码: 
44-53
摘要:
8.
多孔陶瓷膜的制备,表征及其应用
作者:
周明 孟广耀
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1991年3期
页码: 
54-63
摘要:
9.
气相生长人造金刚石的化学泵模型
作者:
Carls.,J 王季陶
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1991年3期
页码: 
64-68
摘要:
10.
亚稳态CVD合成金刚石的机理
作者:
孙碧武 林彰达
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1991年3期
页码: 
69-76
摘要:
11.
新型半导体外延材料
作者:
梁骏吾
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1991年3期
页码: 
77-84
摘要:
12.
在热—冷利用中的能效薄膜
作者:
殷志强
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1991年3期
页码: 
85-101
摘要:
13.
薄膜与平板显示
作者:
陈国平
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1991年3期
页码: 
102-104
摘要:
14.
氮化钛涂层沉积技术的发展概况
作者:
王福贞
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1991年3期
页码: 
105-114
摘要:
15.
光电子器件制作中的干法腐蚀
作者:
李建中
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1991年3期
页码: 
115-118
摘要:
16.
透明热反射薄膜及其窗户节能技术的应用
作者:
俞善庆
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1991年3期
页码: 
119-128
摘要:
17.
金属薄膜磁记录材料的进展
作者:
张中山 张寿柏
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1991年3期
页码: 
129-143
摘要:
18.
钢带真空薄膜技术的初步探讨
作者:
关奎芝 孙殿君
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1991年3期
页码: 
144-153
摘要:
19.
Ti—N薄膜结构研究的若干问题
作者:
闻立时 黄荣芳
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1991年3期
页码: 
154-165
摘要:
20.
组分调制d—Si:H超晶格薄膜的微结构及界面特性
作者:
徐骏 陈坤基
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1991年3期
页码: 
167-172
摘要:
薄膜科学与技术基本信息
刊名
薄膜科学与技术
主编
曾用名
主办单位
南京电子器件研究所
主管单位
出版周期
双月刊
语种
ISSN
CN
邮编
210016
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电话
网址
地址
南京1601信箱43分箱
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