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薄膜科学与技术期刊
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薄膜科学与技术1992年出版文献
出版文献量(篇)
327
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1
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薄膜科学与技术
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主办单位:
南京电子器件研究所
ISSN:
CN:
出版周期:
双月刊
邮编:
210016
地址:
南京1601信箱43分箱
出版文献量(篇)
327
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1990年
目录
31.
高温超导薄膜微细加工技术的研究
作者:
何晓阳 陈学良
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1992年3期
页码: 
37-41
摘要:
32.
α—Si:H TFT中α—SiN:H/α—Si:H界面态的理论分析
作者:
石立峰 阎宝杰
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1992年3期
页码: 
42-48
摘要:
33.
化学镀垂直磁记录薄膜中晶界相的形成及其作用
作者:
刘志辉 杨程
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1992年3期
页码: 
49-54
摘要:
34.
KrF激光CVD形成α—Si:H膜过程中的两个阶段
作者:
吴鼎祥
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1992年3期
页码: 
55-59
摘要:
35.
不钉扎的n—GaAs(100)表面的LB膜钝化
作者:
吴冲若 林海安
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1992年3期
页码: 
60-63
摘要:
36.
碲镉汞阳极氧化的实验研究
作者:
黄河
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1992年3期
页码: 
64-70
摘要:
37.
射频反应溅射CdIn2O4薄膜的光致发光性质
作者:
廖克俊 王万录
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1992年3期
页码: 
71-75
摘要:
38.
氮化钛薄膜的俄歇电子能谱定量分析研究
作者:
王昌铧 龚彬
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1992年3期
页码: 
76-83
摘要:
39.
DS—2型微型直流溅射仪
作者:
任巍 张志峰
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1992年3期
页码: 
84
摘要:
40.
碳膜的传输性质
作者:
何宇亮 顾书林
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1992年4期
页码: 
1-5
摘要:
41.
磁控共溅射制备(Sb2Se3)1—xNix合金薄膜及其可擦除光记录特性
作者:
范正修 薛松生
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1992年4期
页码: 
6-10
摘要:
42.
BaTiO3薄膜的制备与结构研究
作者:
刘梅冬 王培英
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1992年4期
页码: 
11-17
摘要:
43.
离子束混合技术制备TiN薄膜的时效研究
作者:
阎鹏勋
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1992年4期
页码: 
18-23
摘要:
44.
燃烧火焰法沉积金刚石薄膜的研究
作者:
张贵锋 郑修麟
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1992年4期
页码: 
24-28
摘要:
45.
金刚石表面磁控溅射镀Cr的研究
作者:
王明智 王艳辉
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1992年4期
页码: 
29-34
摘要:
46.
IBAD过渡层对蒸镀Al膜结构及性能影响的研究
作者:
杨杰 王晨
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1992年4期
页码: 
35-40
摘要:
47.
氧化铟锡薄膜的气敏特性研究
作者:
章壮健 陈烈敏
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1992年4期
页码: 
41-48
摘要:
48.
α—Ge—单晶Au和α—Ge—多晶Au双层膜真空退火的俄歇电子谱成剖面分析
作者:
张人佶 李莉
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1992年4期
页码: 
49-56
摘要:
49.
离子镀铝青铜膜的研究
作者:
王亮 顾卓明
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1992年4期
页码: 
57-63
摘要:
50.
ZnSe—Ge系光学薄膜
作者:
李志成
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1992年4期
页码: 
64-67
摘要:
51.
温度与电场作用对酞菁铜薄膜结构的影响
作者:
游幼 赵湛
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1992年4期
页码: 
68-71
摘要:
52.
电化学方法制备水合氧化镍电致变色膜
作者:
丘思畴 舒兴胜
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1992年4期
页码: 
72-76
摘要:
53.
激光CVD法制备α—SiC:H膜和太阳电池的实验研究
作者:
吴鼎祥 杨耀鑫
刊名:
薄膜科学与技术
发表期刊:
1992年4期
页码: 
77-81
摘要:
共
53
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薄膜科学与技术基本信息
刊名
薄膜科学与技术
主编
曾用名
主办单位
南京电子器件研究所
主管单位
出版周期
双月刊
语种
ISSN
CN
邮编
210016
电子邮箱
电话
网址
地址
南京1601信箱43分箱
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