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射频磁控反应溅射氧化硅薄膜微结构和电击穿场强研究
射频磁控反应溅射
表面形貌
电击穿场强
射频磁控溅射制备铝酸锶长余辉发光薄膜
磁控溅射
铝酸锶
长余辉
薄膜
磁控反应溅射制备GexC1-x薄膜的特殊性分析
沉积速率
磁控反应溅射
靶中毒
原子百分比
含纳米硅粒SiO2薄膜的光致发光
磁控溅射
纳米硅
光致发光
量子限制效应
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 射频反应溅射CdIn2O4薄膜的光致发光性质
来源期刊 薄膜科学与技术 学科 工学
关键词 射频 反应溅射 薄膜
年,卷(期) 1992,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 71-75
页数 5页 分类号 TN305.055
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1992(0)
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研究主题发展历程
节点文献
射频
反应溅射
薄膜
研究起点
研究来源
研究分支
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引文网络交叉学科
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期刊影响力
薄膜科学与技术
双月刊
南京1601信箱43分箱
出版文献量(篇)
327
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1
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