反应溅射 NiCrOx薄膜过程及其光学性质的研究

• 作者: 曹韫真 胡行方
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控反应溅射 NiCrOx薄膜 光学常数 光谱选择性吸收表面
• 年，卷（期）: 2000,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 304-308
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 2015字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2000.02.018

摘要

研究了反应气体流量对磁控反应溅射NiCrOx薄膜成分和光学常数的影响. 在反应溅射过程中，NiCr靶随着O2流量的增大出现毒化现象. 在不同氧流量条件下可沉积出近于透明的介电薄膜和不透明的吸收薄膜. 对薄膜光学常数的研究可应用到太阳能光谱选择性吸收薄膜的制备.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡行方	中国科学院上海硅酸盐研究所	62	2055	24.0	44.0
2	曹韫真	中国科学院上海硅酸盐研究所	14	85	6.0	9.0