反应气压对直流磁控反应溅射制备的氧化银薄膜的结构和光学性质的影响

• 作者: 冯红亮 卢景霄 张增院 郜小勇 马姣民
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氧化银薄膜 直流磁控反应溅射 X射线衍射谱 光学性质
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:结构、力学和热学性质
• 页码范围: 484-489
• 分类号: O484.41
• 语种: 中文

摘要

利用直流磁控反应溅射技术,通过调节反应气压(RP),在250℃衬底温度下制备了一系列氧化银(AgxO)薄膜,并利用X射线衍射谱、能量色散谱和分光光度计重点研究了RP对AgxO薄膜的结构和光学性质的影响.研究结果表明,随着RP从0.5 Pa升高到3.5 Pa,薄膜明显呈现了从两相(AgO+Ag2O)到单相(Ag2O)结构再到两相(Ag2O+AgO)结构的演变.特别是在RP=2.5 Pa时成功制备了单相Ag2O薄膜,使AgxO薄膜的热分解临界温度的有效降低成为现实.AgxO薄膜透明区的透射率随RP的增加而增加,而反射率和吸收率随RP的增加而减小.该结果可归结于薄膜相结构的演变和薄膜厚度的减小.两相(AgO+Ag2O)薄膜的吸收边在2.75 eV附近,而单相(Ag2O)和Ag2O相占主导的两相(Ag2O+AgO)薄膜的吸收边在2.5 eV附近.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郜小勇	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	52	301	10.0	14.0
2	卢景霄	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	100	570	12.0	17.0
3	冯红亮	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	4	7	2.0	2.0
4	马姣民	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	6	8	2.0	2.0
5	张增院	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	4	6	2.0	2.0