直流磁控反应溅射法制备工艺参数对TiO2薄膜光催化性能的影响

• 作者: QIU Jia-wen 何延春 赵琳
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: TiO2薄膜 磁控溅射 光催化 制备工艺参数
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 页码范围: 857-861
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 语种: 中文

摘要

采用直流磁控反应溅射法在未加热衬底上沉积TiO2薄膜,以紫外灯为光源进行了薄膜光催化降解亚甲基蓝溶液的实验,研究了沉积工艺参数和后处理退火温度对薄膜光催化性能的影响.结果表明:经过500℃退火、厚度较大的薄膜样品光催化效率较高;膜厚基本相同的样品,沉积时电源功率较小、Ar/O2流量比例较小的薄膜光催化效率较高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何延春	兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室	19	211	9.0	14.0
2	赵琳	兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室	4	40	3.0	4.0