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等离子体应用技术快报期刊
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等离子体应用技术快报1995年出版文献
出版文献量(篇)
864
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等离子体应用技术快报
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主办单位:
核工业西南物理研究院
ISSN:
CN:
出版周期:
月刊
邮编:
610041
地址:
四川省成都市432信箱
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1994年
目录
1.
等离子体化学处理及其应用
作者:
宏民
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年1期
页码: 
1-3
摘要:
2.
微粉末的等离子体喷涂方法
作者:
方正
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年1期
页码: 
3-4
摘要:
3.
CCl2F2/H2等离子体用于GaAs的反应离子蚀刻
作者:
王惠三
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年1期
页码: 
4-5
摘要:
4.
用惰性气体的rf放电等离子体对玻璃状碳表面改性
作者:
方正
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年1期
页码: 
5-7
摘要:
5.
感应等离子体处理氧化铝粉末
作者:
碧山
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年1期
页码: 
7-8
摘要:
6.
等离子体聚合涂覆TiO2粒子的混合表面改性
作者:
方正
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年1期
页码: 
8-9
摘要:
7.
高放废物等离子体处理技术
作者:
欣兴
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年1期
页码: 
12-13
摘要:
8.
超声表面波等离子体喷涂ZrO2层的无损特性
作者:
王惠三
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年1期
页码: 
14-15
摘要:
9.
等离子体氮化与TiN镀膜的匹配
作者:
碧山
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年1期
页码: 
15-16
摘要:
10.
钠钝化与PSG中磷浓度的关系
作者:
毕定国
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年1期
页码: 
16-17
摘要:
11.
Al2O3,TiO2及Al2O3—TiO2系等离子体喷涂层的表面性能和远红外辐射性能
作者:
星平
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年1期
页码: 
17-18
摘要:
12.
在YBaCuO超导靶上KrF激光产生的等离子体羽状流的质谱研究
作者:
毕定国
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年1期
页码: 
19-20
摘要:
13.
离子束产生及利用技术
作者:
宏声
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年2期
页码: 
1-3
摘要:
14.
等离子体方法加热钢液
作者:
晓青
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年2期
页码: 
3-4
摘要:
15.
反应磁控溅射沉积氮化铌薄膜
作者:
楚山
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年2期
页码: 
4-5
摘要:
16.
RIE制作透射电子显微镜用样品
作者:
晓青
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年2期
页码: 
5-6
摘要:
17.
双离子束溅射技术制备Al膜
作者:
晓青
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年2期
页码: 
6
摘要:
18.
用低温等离子体为电荧光粒子涂镀氮化硅薄膜
作者:
楚山
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年2期
页码: 
7-8
摘要:
19.
rf磁控溅射法制备LaNiO3钙钛矿膜
作者:
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年2期
页码: 
8-9
摘要:
20.
氧化还原流电池用的阳离子交换薄膜的制备
作者:
肖旭萍
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年2期
页码: 
9
摘要:
21.
大功率离子源研制
作者:
杏希
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年2期
页码: 
12-14
摘要:
22.
水等离子体照射氧化锡薄膜的SIMS和XPS的研究
作者:
刘庚胥
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年2期
页码: 
15-16
摘要:
23.
离子植入改善摩擦学性能
作者:
王惠三
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年2期
页码: 
17
摘要:
24.
等离子体蚀刻中离子轰击对氟化硅表面层的影响
作者:
甘德昌
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年2期
页码: 
18-19
摘要:
25.
FAB蚀刻对Si晶片中的微加工
作者:
楚山
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年2期
页码: 
19-20
摘要:
26.
用OTMS法无需氧化后冷却现场制备YBCO薄膜
作者:
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年2期
页码: 
20-21
摘要:
27.
微波等离子体与rf等离子体的比较
作者:
河耶
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年3期
页码: 
1-2
摘要:
28.
PECVD氮化硅的SF6等离子体活性离子蚀刻
作者:
思乐
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年3期
页码: 
2-4
摘要:
29.
用等离子体—合金反应等方法制备超细Al—AlN复合材料
作者:
碧山
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年3期
页码: 
4-5
摘要:
30.
用PECVD沉积二氧化硅
作者:
甘德昌
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1995年3期
页码: 
5-6
摘要:
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