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等离子体应用技术快报期刊
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等离子体应用技术快报1996年出版文献
出版文献量(篇)
864
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等离子体应用技术快报
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主办单位:
核工业西南物理研究院
ISSN:
CN:
出版周期:
月刊
邮编:
610041
地址:
四川省成都市432信箱
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864
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1994年
目录
1.
干蚀刻用等离子体的现状和今后的课题
作者:
宏声
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年1期
页码: 
1-3
摘要:
2.
离化团粒束沉积技术中Te团粒的形成
作者:
王惠三
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年1期
页码: 
4-5
摘要:
3.
Ar等离子体CVD沉积金刚石
作者:
一弓
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年1期
页码: 
5-6
摘要:
4.
双辉光离子渗金属技术
作者:
李家全
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年1期
页码: 
6-7
摘要:
5.
微波等离子体CVD低温合成金钢石
作者:
一弓
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年1期
页码: 
7-8
摘要:
6.
用于空间等离子体模拟实验的可调谐微波等离子体源
作者:
方水泉
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年1期
页码: 
8-9
摘要:
7.
圆筒磁控溅射装置
作者:
晓青
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年1期
页码: 
9-10
摘要:
8.
螺旋偏压CVD装置1—4100HBiC
作者:
一弓
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年1期
页码: 
11
摘要:
9.
电子加速型片状等离子体实验
作者:
杏希
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年1期
页码: 
12-13
摘要:
10.
用不同方法得到的氮化钛膜的成份和化学性能
作者:
周小兵
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年1期
页码: 
15-16
摘要:
11.
在与分子束外延兼容的ECR等离子体源中原子氮的产生
作者:
乐天
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年1期
页码: 
16-17
摘要:
12.
硅面垒探测器中等离子体柱腐蚀的改进模型
作者:
甘德昌
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年1期
页码: 
17-18
摘要:
13.
用于高精度ULSI图样形成的脉冲时间调制等离子体蚀刻
作者:
萧敏
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年2期
页码: 
1-3
摘要:
14.
反应性离子镀制备多层薄膜
作者:
晓青
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年2期
页码: 
3-4
摘要:
15.
SiCl4/CH4/Ar基等离子体中AlInGaP和GaAs的RIE
作者:
笑生
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年2期
页码: 
4-5
摘要:
16.
活化反应性离子镀制备Ti—B—N膜
作者:
萧敏
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年2期
页码: 
5-6
摘要:
17.
封闭磁中性线中产生的射频放电等离子体应用于等离子体加工
作者:
甘德昌
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年2期
页码: 
7-8
摘要:
18.
用等离子体CVD法制备非晶碳/氮化物薄膜
作者:
晓青
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年2期
页码: 
8-9
摘要:
19.
射频等离子体源
作者:
刘赓胥
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年2期
页码: 
10-11
摘要:
20.
用于等离子体电子密度瞬时测量的改进型Ashby—Jephcott干涉仪
作者:
甘德晶
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年2期
页码: 
11-12
摘要:
21.
使用通过环形缝隙径向注入的微波产生的多会切ECR等离子体源
作者:
刘赓胥
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年2期
页码: 
12-13
摘要:
22.
PCVD装置ASPEN—CVD
作者:
一弓
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年2期
页码: 
14
摘要:
23.
终端反射型片状等离子体
作者:
杏希
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年2期
页码: 
15-16
摘要:
24.
圆TE01模微波产生大横截面均匀ECR等离子体的机理
作者:
文允鉴
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年2期
页码: 
18-19
摘要:
25.
TiN在氧等离子体灰化器中的氧化
作者:
甘德昌
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年2期
页码: 
19-20
摘要:
26.
离子注入对YBCO超导薄膜性能影响就地测量
作者:
方水泉
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年2期
页码: 
20-21
摘要:
27.
电感耦合型等离子体干蚀刻
作者:
宏声
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年3期
页码: 
1-3
摘要:
28.
电子束沉积ZrO2—SnO2薄膜
作者:
袁晓源
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年3期
页码: 
3-4
摘要:
29.
用Cl2对InAlAs/InP进行RBIBE
作者:
笑生
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年3期
页码: 
4-5
摘要:
30.
等离子体沉积金刚石薄膜
作者:
乐天
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1996年3期
页码: 
5-6
摘要:
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