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等离子体应用技术快报期刊
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等离子体应用技术快报1997年出版文献
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864
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等离子体应用技术快报
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主办单位:
核工业西南物理研究院
ISSN:
CN:
出版周期:
月刊
邮编:
610041
地址:
四川省成都市432信箱
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目录
1.
低能聚焦离子束薄膜制备技术
作者:
青山
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年1期
页码: 
1-3
摘要:
2.
在外科用植入物Ti合金上进行等离子体表面处理和PACVD
作者:
杨继芳
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年1期
页码: 
3-4
摘要:
3.
低能碳离子束轰击制备重掺碳的GaAs膜
作者:
张正模
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年1期
页码: 
4-5
摘要:
4.
通过超磁控管PCVD生成导电的掺氮a—C:H膜(DLC膜)
作者:
张正模
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年1期
页码: 
5-6
摘要:
5.
用作惯性约束聚变烧蚀体的掺锗等离子体聚合涂层的制备
作者:
石灵
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年1期
页码: 
7-8
摘要:
6.
利用组合的受控弧蒸发和非平衡磁控管溅射技术沉积超晶格涂层
作者:
张正模
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年1期
页码: 
8-9
摘要:
7.
开发窗口线圈靶型射频溅射装置的试制
作者:
杏希
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年1期
页码: 
11-14
摘要:
8.
反应溅射沉积氧化钇稳定的氧化锆
作者:
石灵
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年1期
页码: 
15-17
摘要:
9.
离子束合成的FeSi2的电学,光学和材料性质
作者:
甘德昌
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年1期
页码: 
17-18
摘要:
10.
低温与超导高温超导电流线技术和开发现状
作者:
明石
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年1期
页码: 
18-20
摘要:
11.
直流热等离子体在材料处理上的应用
作者:
春声
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年2期
页码: 
1-3
摘要:
12.
电子和激光照射作为氧化锆薄膜沉积的能源
作者:
甘德昌
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年2期
页码: 
4
摘要:
13.
用阴极弧沉积法形成金属氧化物
作者:
李川
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年2期
页码: 
4-6
摘要:
14.
多成分MCrAlY阴极的弧蒸发
作者:
李川
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年2期
页码: 
6-7
摘要:
15.
用于沉积和表面改性的质量和能量选择的离子束源
作者:
凡丁
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年2期
页码: 
7-9
摘要:
16.
磁场增强的等离子体蚀刻反应器
作者:
甘德昌
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年2期
页码: 
9-10
摘要:
17.
PVD/CVD陶瓷涂覆技术开发现状
作者:
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年2期
页码: 
10-12
摘要:
18.
多层结构PVCDTi—TiN涂层的沉积和机械性能
作者:
豫东
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年2期
页码: 
14-16
摘要:
19.
Ti(Y)N涂层的制备和性能
作者:
豫民
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年2期
页码: 
16
摘要:
20.
在平板型射频感应耦合等离子体中磁场对氧化物蚀刻特性的影响
作者:
豫丁
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年2期
页码: 
17-18
摘要:
21.
77K下铁包层高温超导线圈的运行特性
作者:
甘德昌
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年2期
页码: 
18-20
摘要:
22.
微波等离子体CVD生长金刚石膜的灵活性
作者:
卫冰
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年3期
页码: 
1-3
摘要:
23.
利用低能C^+,O^+和CO^+离子束沉积碳化硅和氧化硅
作者:
楚山
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年3期
页码: 
3-4
摘要:
24.
用低能金属离子辐照处理表面
作者:
蒋永鹂
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年3期
页码: 
4-5
摘要:
25.
用离子束辅助沉积合成(Ti,Al)N薄膜
作者:
凡丁
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年3期
页码: 
6-7
摘要:
26.
低能(5—100eV),高亮度,超高真空离子源
作者:
甘德昌
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年3期
页码: 
7-8
摘要:
27.
用于直流溅射的螺旋波等离子体
作者:
欣欣
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年3期
页码: 
9-10
摘要:
28.
PVD方法制备功能薄膜
作者:
明石
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年3期
页码: 
10-12
摘要:
29.
将N2^+,O^+,CO^+植入Ti和Ti—6Al—4V
作者:
王惠三
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年3期
页码: 
15-16
摘要:
30.
沉积类金刚石碳膜用的CH4/H2微波等离子体
作者:
文允鉴
刊名:
等离子体应用技术快报
发表期刊:
1997年3期
页码: 
16-17
摘要:
共
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