等离子体应用技术快报2000年第11期出版文献-钛学术文献服务平台

出版文献量（篇）

864

总下载数（次）

总被引数（次）

等离子体应用技术快报

投稿

主办单位：

核工业西南物理研究院

ISSN：

CN：

出版周期：

月刊

邮编：

610041

地址：

四川省成都市432信箱

出版文献量（篇）

864

总下载数（次）

总被引数（次）

文章浏览

热门刊内文献

年度刊次

2000年

12期

11期

10期

9期

8期

7期

6期

5期

4期

3期

2期

1期
1999年
1998年
1997年
1996年
1995年
1994年

1. 等离子体浸没离子植入：意义、限制和前景

作者：拾灵

刊名：等离子体应用技术快报

发表期刊： 2000年11期

页码: 1-4

摘要：
2. 工艺和技术 UHV相容的空心阴极电弧源的研制

作者：拾灵

刊名：等离子体应用技术快报

发表期刊： 2000年11期

页码: 5-7

摘要：
3. 用于CF4反应性离子蚀刻Si的非晶氢化碳掩模的选择性沉积

作者：马丁

刊名：等离子体应用技术快报

发表期刊： 2000年11期

页码: 7-8

摘要：
4. 阴极棒弧活化沉积

作者：柳柳

刊名：等离子体应用技术快报

发表期刊： 2000年11期

页码: 8-10

摘要：
5. 通过对微波电场的分布控制产生高度均匀的ECR等离子体

作者：余晖

刊名：等离子体应用技术快报

发表期刊： 2000年11期

页码: 10-11

摘要：
6. 不平衡磁控管溅射的碳复合涂层

作者：马兵

刊名：等离子体应用技术快报

发表期刊： 2000年11期

页码: 11-13

摘要：
7. 一种新型的连续等离子体离心机

作者：锋利

刊名：等离子体应用技术快报

发表期刊： 2000年11期

页码: 13-15

摘要：
8. 用于感应加速器的大电流激光离子源

作者：柳柳

刊名：等离子体应用技术快报

发表期刊： 2000年11期

页码: 15-17

摘要：
9. NH3等离子体预处理对PECVD产生的TiN涂层性能的影响

作者：乐天

刊名：等离子体应用技术快报

发表期刊： 2000年11期

页码: 20-22

摘要：
10. 离子轰击对用rf磁控管反应性溅射和ECRPACVD法沉积的CNx和CNxHy膜的作用

作者：蓉佳

刊名：等离子体应用技术快报

发表期刊： 2000年11期

页码: 22-24

摘要：
11. 不锈钢等离子体源离子植入与辉光放电等离子体氮化的比较

作者：马兵

刊名：等离子体应用技术快报

发表期刊： 2000年11期

页码: 24-25

摘要：
12. 超导射频加速空腔研究的新进展

作者：易翰

刊名：等离子体应用技术快报

发表期刊： 2000年11期

页码: 25-27

摘要：

等离子体应用技术快报基本信息

刊名	等离子体应用技术快报	主编
曾用名
主办单位	核工业西南物理研究院	主管单位
出版周期	月刊	语种
ISSN		CN
邮编	610041	电子邮箱
电话	(028)29324	网址
地址	四川省成都市432信箱

等离子体应用技术快报评价信息

等离子体应用技术快报统计分析

被引趋势

(/次)

(/年)

学科分布

研究主题