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离子轰击对用rf磁控管反应性溅射和ECRPACVD法沉积的CNx和CNxHy膜的作用
离子轰击对用rf磁控管反应性溅射和ECRPACVD法沉积的CNx和CNxHy膜的作用
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摘要：
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文献信息
| 篇名 | 离子轰击对用rf磁控管反应性溅射和ECRPACVD法沉积的CNx和CNxHy膜的作用 | ||
| 来源期刊 | 等离子体应用技术快报 | 学科 | 物理学 |
| 关键词 | 离子轰击 RF磁控管反应性溅射 ECRPACVD法 薄膜 | ||
| 年，卷（期） | 2000,（11） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 22-24 | |
| 页数 | 3页 | 分类号 | O484.1 |
| 字数 | 语种 | ||
| DOI | |||
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离子轰击
RF磁控管反应性溅射
ECRPACVD法
薄膜
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等离子体应用技术快报
主办单位：
核工业西南物理研究院
出版周期：
月刊
ISSN：
CN：
开本：
出版地：
四川省成都市432信箱
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创刊时间：
语种：
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864
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