循环氩离子轰击对等离子体增强化学气相沉积(PECVD)TiN膜耐腐蚀性能的影响

• 作者: 何家文 谢飞
• 来源期刊: 江苏石油化工学院学报
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体增强化学气相沉积 TiN膜 耐蚀性 Ar+轰击
• 年，卷（期）: 2000,（2）
• 页码范围: 27-30
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.453
• 字数: 2385字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.2095-0411.2000.02.009

摘要

设计了循环氩离子轰击-PECVD TiN工艺.运用扫描电子显微镜、能谱仪、恒电位仪等仪器设备,研究循环氩离子轰击对PECVD TiN膜耐腐蚀性能的影响及作用机理.结果表明:循环氩离子轰击提高了膜层在硝酸和硫酸中的耐腐蚀性能.这主要是由于循环氧离子轰击强化了沉积中的反应,细化了TiN晶粒,降低了膜层中的残余氯含量.循环氩离子轰击还可能具有减少膜内缺陷、提高TiN膜致密性的作用,从而亦有助于提高膜的耐蚀性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何家文	西安交通大学材料科学与工程学院	81	1138	18.0	30.0
2	谢飞	江苏石油化工学院机械工程系	9	45	4.0	6.0