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【专利】
曝光装置和曝光方法
发明人:
朱凤稚
申请人:
京东方科技集团股份有限公司
公开时间:
2015-05-13
摘要:
本发明公开了一种曝光装置和曝光方法,该曝光装置包括:承载基台,其中承载基台用于承载待曝光基板,承载基台包括:若干个承载单元,待曝光基板被划分为与承载单元一一对应的若干个调节区域,承载单元中设置有温度调节模块,温度调节模块用于调节待曝光基板上对应的调节区域的温度,以使待曝光基板上对应的调节区域产生相应的热膨胀。本发明的技术方案通过调节待曝光基板上各调节区域的温度,以使得待曝光基板上各调节区域产生相应的热膨胀,从而对各调节区域的上表面的光强进行调节,从而能有效的保证待曝光基板的上表面的光强的均匀分布。
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2.
【专利】
一种触摸屏和触摸装置
发明人:
樊浩原
刘旭
朱凤稚
于翔
申请人:
京东方科技集团股份有限公司
公开时间:
2016-10-12
摘要:
本发明提供一种触摸屏和触摸装置,该触摸屏包括:基板以及设置于基板上的同层设置的多个呈矩阵方式排列的触控电极,每一触控电极包括至少两段子电极线,各子电极线顺次相接形成呈折线型的触控电极,基板划分为多个分区,每一分区中设置有至少一个触控电极,位于同一分区中的各触控电极的图形相同,至少存在两个分区,所述两个分区中的触控电极的图形不同。因而,属于不同的分区,且位于同一行或同一列的子电极线的走向可能不同,走向不同的子电极线的边缘不会向同一方向反射光线,因而可以打断因行或列中的所有子电极线的走向均相同而造成的连续的明暗条纹,优化了显示效果。
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3.
【专利】
曝光装置和曝光方法
发明人:
朱凤稚
申请人:
京东方科技集团股份有限公司
公开时间:
2016-10-19
摘要:
本发明公开了一种曝光装置和曝光方法,该曝光装置包括:承载基台,其中承载基台用于承载待曝光基板,承载基台包括:若干个承载单元,待曝光基板被划分为与承载单元一一对应的若干个调节区域,承载单元中设置有温度调节模块,温度调节模块用于调节待曝光基板上对应的调节区域的温度,以使待曝光基板上对应的调节区域产生相应的热膨胀。本发明的技术方案通过调节待曝光基板上各调节区域的温度,以使得待曝光基板上各调节区域产生相应的热膨胀,从而对各调节区域的上表面的光强进行调节,从而能有效的保证待曝光基板的上表面的光强的均匀分布。
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4.
【专利】
彩膜基板、显示面板、显示装置及其制作方法
发明人:
周刚
朱凤稚
杨小飞
王立苗
申请人:
京东方科技集团股份有限公司
公开时间:
2017-12-08
摘要:
本发明提供了一种彩膜基板、显示面板、显示装置及其制作方法。本发明实施例提供的彩膜基板的制作方法包括:在衬底基板上形成黑矩阵,通过多次构图工艺形成色阻层,并在形成色阻层的同时形成多个隔垫物,由于多个隔垫物是在形成色阻层时同时形成的,因此省去了现有方法中单独使用构图工艺形成隔垫物的工艺步骤,简化了彩膜基板的制作工艺。
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5.
【专利】
一种反射式液晶显示面板及其制备方法、显示装置
发明人:
沈武林
樊浩原
王欢
苏彦新
陈文强
朱凤稚
申请人:
京东方科技集团股份有限公司
公开时间:
2018-08-03
摘要:
本申请公开了一种反射式液晶显示面板及其制备方法、显示装置,用以增加反射式液晶显示产品的出光强度,提高反射式液晶显示产品的亮度,提高显示画面质量,提升用户体验。本申请实施例提供的一种反射式液晶显示面板,包括:相对设置的对向基板和阵列基板,以及位于所述对向基板和所述阵列基板之间的液晶层;其中,所述阵列基板在每个子像素对应的区域具有光反射层;所述对向基板在每个子像素对应的区域具有将外部光线汇聚至所述光反射层的聚光结构。
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6.
【期刊】
新型TFT-LCD黑矩阵的细线化研究
作者:
靳福江
卢兵
朱凤稚
罗峰
柳星
代伟男
刘华
范峻
刊名:
液晶与显示
发表时间:
2014-04-01
摘要:
介绍了新型TFT LCD黑矩阵细线化研究.在原有工艺设备的基础上,突破设备局限和工艺瓶颈,通过引入相掩膜技术和背面曝光设备,达到进一步减小黑矩阵线宽的效果.实验测试结果显示:在普通掩膜板设计上应用相位移掩膜板技术,降低透光区边缘衍射和散射现象,使曝光后黑矩阵线宽降低1.0~1.5 μm.在原有工艺基础上添加背面曝光工艺,使黑矩阵材料在显影后进行背面曝光预固化,改善黑矩阵图形形貌,进一步减小黑矩阵线宽达到0.3~0.5 μm.通过新工艺和新设备的引入和应用,黑矩阵线宽整体降低1.5~2.0 pm,达到5.0~5.5 μm,可以满足目前高PPI(单位面积像素个数)产品对透过率和对比度要求.
黑矩阵
线宽
相位移掩膜板
背面曝光
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7.
【专利】
阵列基板及其制作方法、液晶显示面板、显示装置
发明人:
朱凤稚
于翔
申请人:
京东方科技集团股份有限公司
公开时间:
2016-09-21
摘要:
本发明一种阵列基板,用于液晶显示面板中,所述阵列基板包括衬底,所述衬底包括显示区、环绕所述显示区的用于设置封框胶的封框胶区,所述阵列基板还包括设置在所述衬底上的凸起,所述凸起位于所述封框胶区所环绕的区域内,且朝向所述液晶显示面板的对盒基板凸出。本发明能够减少封框胶的污染,改善产品质量。
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8.
【专利】
彩膜基板、显示面板、显示装置及其制作方法
发明人:
周刚
朱凤稚
杨小飞
王立苗
申请人:
京东方科技集团股份有限公司
公开时间:
2017-12-08
摘要:
本发明提供了一种彩膜基板、显示面板、显示装置及其制作方法。本发明实施例提供的彩膜基板的制作方法包括:在衬底基板上形成黑矩阵,通过多次构图工艺形成色阻层,并在形成色阻层的同时形成多个隔垫物,由于多个隔垫物是在形成色阻层时同时形成的,因此省去了现有方法中单独使用构图工艺形成隔垫物的工艺步骤,简化了彩膜基板的制作工艺。xa0xa0
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9.
【期刊】
TFT-LCD的Line Zara失效机制及改善
作者:
王欢
于翔
朱凤稚
苏彦新
沈武林
郁信波
刘旭
刊名:
液晶与显示
发表时间:
2019-06-01
摘要:
为了彻底改善TFT-LCD的Line Zara不良,本文建立了Line Zara失效模型,并分析了Line Zara失效机制,其中Line Zara发生率与外力大小及玻璃弯曲形变程度成正比,与框胶至柱状隔垫物距离、框胶粘结力成反比.基于Line Zara的失效机制,针对性地提出了改善措施并进行了实验验证.实验结果表明,减薄时的抛光工艺、减薄后运输箱的填充密度和框胶粘结力对Line Zara有显著的影响.随着抛光压力的减小和时间缩短,Line Zara发生率逐渐减少.随着运输箱中玻璃数量或隔垫物数量的增加,运输箱的填充密度逐渐增大,玻璃受外力发生的弯曲形变逐渐减小,相应的Line Zara发生率逐渐减小;当隔垫物为无尘纸时,玻璃的弯曲形变最小,Line Zara发生率最低.此外,当框胶与ITO粘结力增加12.5%、与PI粘结力增加66%后,Line Zara的发生率可降低至2%以下.TFT-LCD的Line Zara不良可通过降低抛光压力与时间、增加运输箱的填充密度和增加框胶粘结力彻底改善.
TFT-LCD
Line Zara
失效机制
弯曲形变
抛光工艺
填充密度
框胶粘结力
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