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双沟道注入工艺探讨
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文献信息
| 篇名 | 双沟道注入工艺探讨 | ||
| 来源期刊 | 上海半导体 | 学科 | 工学 |
| 关键词 | CMOS 电路 双沟道 离子注入 | ||
| 年，卷（期） | shwdzjshyy_1989,（3） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 11-14 | |
| 页数 | 4页 | 分类号 | TN430.53 |
| 字数 | 语种 | ||
| DOI | |||
五维指标
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研究主题发展历程
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CMOS
电路
双沟道
离子注入
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相关学者/机构
期刊影响力
上海微电子技术和应用
主办单位：
出版周期：
季刊
ISSN：
1006-9453
CN：
31-1239/TN
开本：
出版地：
上海市胶州路397号 上海半导体器件研究
邮发代号：
创刊时间：
语种：
出版文献量（篇）
435
总下载数（次）
3
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