作者:
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
推荐文章
铜钨-铬铜整体电触头制造工艺
铜钨-铬铜
电触头
工艺
匀胶法制备改性石墨烯光催化薄膜的工艺及光催化性能
改性石墨烯薄膜
匀胶工艺
亚甲基蓝
可见光光催化
羟基自由基
铬酸酐掺杂V2O5制备高红外反射率氧化铬绿颜料
氧化铬绿颜料
红外反射性能
V2O5
颜色性能
介电常数
电导率
膜厚对溅射铬膜与锆合金基体附着性的影响
锆合金
铬膜
厚度
组织
附着性
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 匀胶减反射铬膜的工艺研究与制造
来源期刊 红讯半导体 学科 工学
关键词 匀胶 铬膜 减反射 半导体器件 光刻
年,卷(期) 1990,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 51-57
页数 7页 分类号 TN305.7
字数 语种
DOI
五维指标
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (0)
节点文献
引证文献  (0)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
1990(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
匀胶
铬膜
减反射
半导体器件
光刻
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
红讯半导体
双月刊
上海新肇周路1381号
出版文献量(篇)
37
总下载数(次)
0
论文1v1指导