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碳化硅晶片的制备技术
碳化硅晶片
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利用XPS研究紫外光激发下 GaAs晶片表面氧化反应
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表面
氧化
紫外光
X射线光电子能谱
微观表面的表征技术与方法
表面表征
表征参数
表征技术
分形表征
低表面能表面的制备方法
低表面能
制备方法
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 晶片表面的清洁技术
来源期刊 LSI制造与测试 学科 工学
关键词 晶片 加工工艺 表面处理 表面清洁
年,卷(期) 1991,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 36-39
页数 4页 分类号 TN305.2
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1991(0)
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研究主题发展历程
节点文献
晶片
加工工艺
表面处理
表面清洁
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
LSI制造与测试
双月刊
31-1459/TN
上海江西中路450号
出版文献量(篇)
366
总下载数(次)
0
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0
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