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文献信息
| 篇名 | 日研制成超高真空下的低温化学汽相淀积法 | ||
| 来源期刊 | 电子工艺简讯 | 学科 | 工学 |
| 关键词 | 集成电路 化学汽相淀积 真空 低温 | ||
| 年，卷（期） | dzgyjx_1991,（7） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 11-12 | |
| 页数 | 2页 | 分类号 | TN405.986 |
| 字数 | 语种 | ||
| DOI | |||
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1991(0)
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集成电路
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