低压化学气相淀积的模型及模拟

• 作者: 周再发 徐大为 李伟华
• 来源期刊: 中国机械工程
• 学科: 工学
• 关键词: 低压化学气象沉积(LPCVD) 淀积模拟 计算机模拟 线算法
• 年，卷（期）: 2005,（z1）
• 所属期刊栏目: 微纳系统设计理论与CAD技术
• 页码范围: 207-209
• 页数: 3页
• 分类号: TN405
• 字数: 2159字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-132X.2005.z1.071

摘要

通过对几个淀积工艺模型的讨论,分析了气体在低压下的传输机理及各部分反应对淀积结果的贡献,在此基础上提出了低压化学气象淀积(LPCVD)的二维淀积模型.这个模型在结构上比较简单,计算方便,模型考虑了中间产物的作用,能得到与实际情况较为符合的结构.最后使用C语言编程,采用线算法将模型变为程序,计算过程较为简单,计算速度较快.