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离子注入均匀性重复性工艺研究
离子注入均匀性重复性工艺研究
作者:
张建勋
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半导体
离子注入
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200MC型
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篇名
离子注入均匀性重复性工艺研究
来源期刊
延河集成电路
学科
工学
关键词
半导体
离子注入
工艺
200MC型
年,卷(期)
1992,(2)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
23-24
页数
2页
分类号
TN305.3
字数
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DOI
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200MC型
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期刊影响力
延河集成电路
主办单位:
西安81信箱延河无线电厂
出版周期:
月刊
ISSN:
CN:
11-2071/TN
开本:
出版地:
西安81信箱
邮发代号:
创刊时间:
语种:
出版文献量(篇)
54
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