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用于描述CVD工艺中SiCl4 O2 SF6系统平衡的热力学模型
用于描述CVD工艺中SiCl4 O2 SF6系统平衡的热力学模型
作者:
Aulit.,V
王志军
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
光纤
制造
工艺
CVD
热力学模型
摘要:
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文献信息
篇名
用于描述CVD工艺中SiCl4 O2 SF6系统平衡的热力学模型
来源期刊
光纤通信技术
学科
工学
关键词
光纤
制造
工艺
CVD
热力学模型
年,卷(期)
1992,(2)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
55-60
页数
6页
分类号
TQ342.82
字数
语种
中文
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热力学模型
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研究来源
研究分支
研究去脉
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期刊影响力
光纤通信技术
主办单位:
武汉邮电科学研究院
出版周期:
月刊
ISSN:
CN:
开本:
出版地:
武汉市洪山区邮科院路88号
邮发代号:
创刊时间:
语种:
出版文献量(篇)
1130
总下载数(次)
10
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