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文献信息
| 篇名 | YSZ上外延硅界面的特性 | ||
| 来源期刊 | 薄膜科学与技术 | 学科 | 工学 |
| 关键词 | 硅 氧化锆 界面 外延炉 特性 | ||
| 年，卷（期） | bmkxyjs_1993,（2） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 98-103 | |
| 页数 | 6页 | 分类号 | TN304.210 |
| 字数 | 语种 | ||
| DOI | |||
五维指标
引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
硅
氧化锆
界面
外延炉
特性
研究起点
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研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
薄膜科学与技术
主办单位：
南京电子器件研究所
出版周期：
双月刊
ISSN：
CN：
开本：
出版地：
南京1601信箱43分箱
邮发代号：
创刊时间：
语种：
出版文献量（篇）
327
总下载数（次）
1
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