氮化硅薄膜的制备技术

• 作者: 余京松 杨辉 江仲华 葛曼珍 马青松
• 来源期刊: 中国陶瓷工业
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化硅 薄膜 制备
• 年，卷（期）: 1999,（1）
• 所属期刊栏目: 文献综述
• 页码范围: 20-22
• 页数: 3页
• 分类号: TQ17
• 字数: 3970字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-2874.1999.01.006

摘要

氮化硅薄膜是一种重要的精细陶瓷薄膜材料,具有优秀的光电性能、钝化性能、稳定性能和机械性能,在微电子、光电和材料表面改性等领域有着广阔的应用前景.本文综述了几种制备氮化硅薄膜的方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨辉	浙江大学材料系	356	3707	28.0	43.0
5	余京松	浙江大学材料系	9	78	5.0	8.0
9	马青松	浙江大学材料系	3	35	3.0	3.0
13	葛曼珍	浙江大学材料系	8	170	5.0	8.0
17	江仲华	浙江大学材料系	2	26	1.0	2.0