氢化非晶硅的红外光谱及氢释放的研究

• 作者: 刘传珍 吴渊 廖燕平 朱永福 李牧菊 杨柏梁 袁剑峰
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 化学
• 关键词: 非晶硅 化学气相淀积 红外光谱 金相显微
• 年，卷（期）: 1999,（3）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 193-198
• 页数: 6页
• 分类号: TN304.8|O657.33
• 字数: 2523字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2780.1999.03.007

摘要

用等离子体增强化学气相淀积(PECVD)制备了氢化非晶硅薄膜(a-Si∶H)并进行了退火实验,利用红外吸收光谱(IR)和金相显微镜研究薄膜中的氢含量及退火前后的脱氢现象,得出材料组成及热稳定性对衬底温度Ts和射频功率Prf的依赖关系.