硼靶制备技术的研究

• 作者: 许国基 魏永钦
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 电子轰击 聚焦重离子束溅射 电喷 分光光度计
• 年，卷（期）: 1999,（4）
• 所属期刊栏目: 第六届全国核靶技术交流会论文选
• 页码范围: 357-359
• 页数: 3页
• 分类号: O484.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.1999.04.019

摘要

介绍B靶制备技术及其质量厚度测量方法.静电振动、高压电喷和离心沉淀主要用于制备有衬B靶,而聚焦重离子束溅射和电子轰击可用来制备自支撑B靶和有衬B靶.B靶的质量厚度用分光光度法和称重法测量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许国基	中国原子能科学研究院核物理研究所	12	42	4.0	5.0
2	魏永钦	中国科学院上海原子核研究所	2	9	2.0	2.0