埋点靶制备工艺研究

• 作者: 余斌 吴卫东 张占文 张昭瑞 罗青 袁光辉 袁玉萍 许华 郑永铭 陆晓明 高党忠 魏胜 黄丽珍
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 埋点靶 制备 CH薄膜
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 页码范围: 313-315
• 页数: 3页
• 分类号: TL503.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.2002.04.007

摘要

研究了激光惯性约束聚变(ICF)实验中一种基础基准靶埋点靶的制备工艺过程.埋点靶的制备过程主要包括CH膜的制备、埋点的定位和埋点材料的制备.其中,CH薄膜的制备及其性质是制备埋点靶的关键工艺环节.最后给出了埋点靶的制备工艺流程.