埋点靶中CH薄膜的制备工艺研究

• 作者: 余斌 吴卫东 张占文 许华 魏胜 黄勇
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: CH薄膜 沉积速率 埋点靶
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 页码范围: 68-71
• 页数: 5页
• 分类号: TL639.11
• 字数: 1942字
• 语种: 中文

摘要

CH薄膜的制备是埋点靶制备的关键技术之一，主要研究了钨丝辅助裂解制备CH薄膜的制备工艺。研究表明蒸发舟温度和衬底温度对沉积速率影响较大，而衬底距离对沉积速率影响较小；红外光谱和质谱分析表明薄膜的主要成分是聚对二甲苯。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴卫东		140	1087	18.0	26.0
2	张占文		80	531	12.0	16.0
3	魏胜		22	160	8.0	12.0
4	黄勇		38	270	9.0	15.0
5	许华		23	287	9.0	16.0
6	余斌		20	108	6.0	9.0