氮化硅层状陶瓷界面性能对力学性能的影响

• 作者: 李金林 蔡胜有 谢志鹏 黄勇
• 来源期刊: 复合材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 界面 桥接 氮化硅 氮化硼 层状复合材料
• 年，卷（期）: 1999,（2）
• 页码范围: 110-115
• 页数: 6页
• 分类号: TB301|TQ174.758.2
• 字数: 3382字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3851.1999.02.021

摘要

通过加入Si3N4调节隔离层的性质,研究了Si3N4/BN层状复合材料在不同界面结合情况下的力学性能变化规律.结果表明,随着隔离层中Si3N4含量的提高,基体片层之间的结合力不断增强.在结合力很强时,层状材料具有与块状材料相同的破坏方式,强度出现极值,达到1000 MPa以上;在结合力较弱时,隔离层能够反复偏折裂纹,层状材料表现出高达20 MPa.m1/2的表观断裂韧性和约600 MPa的强度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄勇	清华大学精细陶瓷与工艺国家重点实验室清华大学材料科学与工程系	173	2711	27.0	42.0
2	谢志鹏	清华大学精细陶瓷与工艺国家重点实验室清华大学材料科学与工程系	182	1898	22.0	36.0
3	蔡胜有	清华大学精细陶瓷与工艺国家重点实验室清华大学材料科学与工程系	1	27	1.0	1.0
4	李金林	清华大学精细陶瓷与工艺国家重点实验室清华大学材料科学与工程系	2	29	2.0	2.0