表面处理对氮化硅陶瓷力学性能的影响

• 作者: 张东方
• 来源期刊: 佛山陶瓷
• 关键词: 残余应力 磨削 抛光 抗弯强度 Si3N4
• 年，卷（期）: 2003,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与探讨
• 页码范围: 11-12
• 页数: 2页
• 分类号: TQ174
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-8236.2003.05.003

摘要

采用X射线衍射应力分析的sin2ψ法计算了Si3N4陶瓷试样的残余应力,并分别测量了表面处理前后Si3N4试样的力学性能.结果表明,经平面磨削后的Si3N4试样表面残余应力为拉应力,而抛光处理可适当降低残余应力.两种方法都使试样抗弯强度降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张东方	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	10	111	6.0	10.0