波长1O64nm脉冲激光高阈值反射膜的研制

• 作者: 付雄鹰 孔明东 胡建平 范正修
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: HfO2/SiO2反射膜 激光诱导损伤阈值 电子柬蒸发 等离子辅助沉积
• 年，卷（期）: 1999,（4）
• 所属期刊栏目: 高功率激光与光学
• 页码范围: 413-417
• 分类号: TN24
• 语种: 中文

摘要

研究HfO2/SiO2高反射膜的制备工艺及其激光诱导损伤阈值的比较测试,分别采用了反应蒸镀HfO2、反应离子辅助蒸镀HfO2、反应离子辅助蒸镀金属Hf的源材料形成HfO2薄膜.采用这三种工艺制备了HfO2/SiO2高反射膜,在中心波长1064nm处,反射率R≥99.5%,其中反应蒸镀HfO2/SiO2高反射膜损伤阈值最高,可达60J/cm2(1064nm,5ns).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	范正修	中国科学院上海光机所	203	2312	23.0	32.0
2	付雄鹰	中国科学院上海光机所	2	36	2.0	2.0
3	孔明东	中国科学院上海光机所	5	55	3.0	5.0
4	胡建平	中国科学院上海光机所	2	35	2.0	2.0