溅射条件对SiO2膜力学特性的影响

• 作者: 关艳霞 孙承松 魏永广
• 来源期刊: 沈阳工业大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 溅射 SiO2膜 力学特性
• 年，卷（期）: 1999,（3）
• 页码范围: 204-206
• 分类号: TP212
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-1646.1999.03.007

摘要

介绍了在不锈钢衬底和Ni-Cr应变电阻间SiO2薄膜的制做方法,在不宜用热氧化和CVD法制做SiO2膜的情况下,利用该法是行之有效的.探讨了溅射工艺条件对膜附着力和应力的影响,并指出了制备具有较好附着力和较低应力的方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙承松	沈阳工业大学信息科学与工程学院	17	134	6.0	11.0
2	魏永广	沈阳工业大学信息科学与工程学院	7	49	5.0	7.0
3	关艳霞	沈阳工业大学信息科学与工程学院	35	79	5.0	7.0