MEVVA源金属离子注入和金属等离子体浸没注入

• 作者: 侯君达 张涛
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 金属离子注入 材料 表面
• 年，卷（期）: 2000,（3）
• 所属期刊栏目: 专题综述
• 页码范围: 8-12
• 页数: 7页
• 分类号: O485
• 字数: 5107字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1007-9289.2000.03.003

摘要

MEVVA源金属离子注入技术和金属等离子体浸没注入技术MePIII的共同特性是强流金属离子注入.它们各具长处,相互补充,共同发展.前者因无鞘层重叠问题和其方向强的特点,特别适用于小件、简单件的大批量金属离子注入处理,能保证处理的均匀性和高效率.后者因无视线加工限制并克服了保持剂量问题,特别适用于处理体积较大、形状复杂的工件,能保证工件所有暴露表面的加工均匀性,调整工作参数,还能进行金属膜沉积和各种沉积/注入比例的动态增强沉积金属、合金及化合物膜制备.综述上述二者的开发、工作原理、材料表面改性研究和工业应用新进展.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张涛	北京师范大学低能核物理所	129	353	9.0	13.0
2	侯君达	北京师范大学低能核物理所	7	50	4.0	7.0