双面对准曝光中关键技术研究

• 作者: 王志越
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 双面对准 曝光系统 关键技术 对准工作台 精度分析
• 年，卷（期）: 2000,（3）
• 所属期刊栏目: 论文·研制报告
• 页码范围: 13-18,29
• 页数: 7页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2837字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2000.03.003

摘要

对双面曝光技术中的对准方式、曝光光源系统、对准工作台等关键技术进行了研究,并通过多年工作实践经验,对对准工作台的精度分析作了论述.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王志越		1	8	1.0	1.0