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摘要:
在电子碰撞的情形下,通过对铜靶的特征X射线测量,从而推算出它的K壳层电离截面.在实验中采用了薄靶厚衬底新方法.通过电子输运计算,由厚衬底产生的反射电子对计数的影响得以修正.用蒙特卡罗技术对质量厚度为23μg/cm2的铜靶的多次散射影响作了修正.
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内容分析
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文献信息
篇名 电子碰撞引起的铜元素K壳层电离截面的测量与修正
来源期刊 强激光与粒子束 学科 物理学
关键词 电离截面 薄靶厚衬底 电子碰撞 修正方法
年,卷(期) 2000,(5) 所属期刊栏目 ICF与激光等离子体
研究方向 页码范围 601-604
页数 4页 分类号 O562.4
字数 2130字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 安竹 四川大学原子核科学技术研究所 24 49 4.0 6.0
2 周长庚 四川大学原子核科学技术研究所 3 4 1.0 2.0
3 付玉川 四川大学原子核科学技术研究所 2 8 2.0 2.0
4 罗正明 四川大学原子核科学技术研究所 13 98 5.0 9.0
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研究主题发展历程
节点文献
电离截面
薄靶厚衬底
电子碰撞
修正方法
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
强激光与粒子束
月刊
1001-4322
51-1311/O4
大16开
四川绵阳919-805信箱
62-76
1989
chi
出版文献量(篇)
9833
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7
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61664
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