反应溅射制备非晶Al2O3薄膜的介电特性

• 作者: 朱炎 狄国庆 赵登涛
• 来源期刊: 材料科学与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 反应射频磁控溅射 介电性质 非晶 氧化铝薄膜
• 年，卷（期）: 2000,（3）
• 页码范围: 80-83
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 2834字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2000.03.020

摘要

在氧气、氩气的混合气氛中,利用反应射频磁控溅射制备了厚度在100到10纳米的非晶氧化铝薄膜.通过Al-Al2O3-Al电容器研究了此非晶薄膜的介电性质.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱炎	苏州大学物理系薄膜材料实验室	9	68	4.0	8.0
2	赵登涛	苏州大学物理系薄膜材料实验室	7	43	4.0	6.0
3	狄国庆	苏州大学物理系薄膜材料实验室	18	135	7.0	11.0