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与Si工艺兼容的Si/SiGe/Si HBT研究
与Si工艺兼容的Si/SiGe/Si HBT研究
作者:
廖小平
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
Si/SiGe/Si HBT
Si兼容工艺
摘要:
我们对Si/SiGe/Si HBT及其Si兼容工艺进行了研究,在研究了一些关键的单项工艺的基础上,提出了五个高速Si/SiGe/Si HBT结构和一个低噪声Si/SiGe/Si HBT结构,并已研制成功台面结构Si/SiGe/Si HBT和低噪声Si/SiGe/Si HBT,为进一步高指标的Si/SiGe/Si HBT的研究建立了基础.
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期刊文献
内容分析
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关键词热度
相关文献总数
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文献信息
篇名
与Si工艺兼容的Si/SiGe/Si HBT研究
来源期刊
电子器件
学科
工学
关键词
Si/SiGe/Si HBT
Si兼容工艺
年,卷(期)
2001,(4)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
274-278
页数
5页
分类号
TN31
字数
3218字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1005-9490.2001.04.003
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
廖小平
东南大学微电子中心
6
9
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引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
Si/SiGe/Si HBT
Si兼容工艺
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子器件
主办单位:
东南大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1005-9490
CN:
32-1416/TN
开本:
大16开
出版地:
南京市四牌楼2号
邮发代号:
创刊时间:
1978
语种:
chi
出版文献量(篇)
5460
总下载数(次)
21
总被引数(次)
27643
期刊文献
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