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摘要:
我们对Si/SiGe/Si HBT及其Si兼容工艺进行了研究,在研究了一些关键的单项工艺的基础上,提出了五个高速Si/SiGe/Si HBT结构和一个低噪声Si/SiGe/Si HBT结构,并已研制成功台面结构Si/SiGe/Si HBT和低噪声Si/SiGe/Si HBT,为进一步高指标的Si/SiGe/Si HBT的研究建立了基础.
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内容分析
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文献信息
篇名 与Si工艺兼容的Si/SiGe/Si HBT研究
来源期刊 电子器件 学科 工学
关键词 Si/SiGe/Si HBT Si兼容工艺
年,卷(期) 2001,(4) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 274-278
页数 5页 分类号 TN31
字数 3218字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1005-9490.2001.04.003
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 廖小平 东南大学微电子中心 6 9 2.0 2.0
传播情况
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2014(1)
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研究主题发展历程
节点文献
Si/SiGe/Si HBT
Si兼容工艺
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子器件
双月刊
1005-9490
32-1416/TN
大16开
南京市四牌楼2号
1978
chi
出版文献量(篇)
5460
总下载数(次)
21
总被引数(次)
27643
论文1v1指导