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摘要:
在Si/SiGe/Si HBT与Si工艺兼容的研究基础上,对射频Si/SiGe/Si HBT的射频特性和制备工艺进行了研究,分析了与器件结构有关的关键参数寄生电容和寄生电阻与Si/SiGe/Si HBT的特征频率fT和最高振荡频率fmax的关系,成功地制备了fT为2.5 GHz、fmax为2.3 GHz的射频Si/SiGe/Si HBT,为具有更好的射频性能的Si/SiGe/Si HBT的研究建立了基础.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 射频 Si/SiGe/Si HBT的研究
来源期刊 电子器件 学科 工学
关键词 Si/SiGe/Si HBT 特征频率fT 最高振荡频率fmax
年,卷(期) 2003,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 136-138
页数 3页 分类号 TN325+.2
字数 1880字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1005-9490.2003.02.008
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 廖小平 东南大学微电子中心 6 9 2.0 2.0
2 殷刚毅 东南大学微电子中心 4 9 2.0 3.0
传播情况
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引文网络
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参考文献  (2)
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1995(2)
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2008(1)
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  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
Si/SiGe/Si HBT
特征频率fT
最高振荡频率fmax
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子器件
双月刊
1005-9490
32-1416/TN
大16开
南京市四牌楼2号
1978
chi
出版文献量(篇)
5460
总下载数(次)
21
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