脉冲准分子激光沉积纳米WO3多晶电致变色薄膜的研究

• 作者: 刘祖黎 周远明 姚凯伦 方国家
• 来源期刊: 硅酸盐学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 二氧化钨薄膜 纳米晶 脉冲准分子激光沉积 ]工艺条件 结构分析
• 年，卷（期）: 2001,（6）
• 页码范围: 559-564
• 页数: 6页
• 分类号: O484:O433
• 字数: 3182字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0454-5648.2001.06.011

摘要

采用脉冲准分子激光大面积扫描沉积技术,在不同条件下,在透明导电衬底SnO2:In2O)3(IIO)及Si(111)单晶衬底上沉积了非晶WOx薄膜采用X射线衍射(ⅪD)、Rmman光谱(RS)、Fourier红外光谱(FT-IR)及透射电镜扫描附件(STEM)对在不同条件下沉积及不同温度退火处理的样品进行了结构分析.结果表明:氧气氛和衬底温度是决定薄膜结构和成分的主要参数采用三斜相的WO3靶材,在100℃及20 Pa氧压下沉积,经300℃以上退火处理,在Si(111)及IIO衬底上得到了二斜相的纳米晶WO3薄膜随着氧压的减少,薄膜中氧缺位增多采用lT)基片,氧压20)Pa,经300℃热处理的薄膜,呈多晶态,晶粒分布均匀,晶粒平均尺寸为20～30 nn经400℃热处理的薄膜,呈多晶态,晶界明显,晶粒分布呈开放型多孔结构,晶粒平均尺寸为30～50 Bm这一典型的结构有利于离子的注入和抽出.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚凯伦	华中科技大学物理系	32	341	10.0	17.0
2	方国家	华中科技大学物理系	2	46	2.0	2.0
3	刘祖黎	襄樊学院信息功能材料研究室	1	27	1.0	1.0
4	周远明	华中科技大学物理系	1	27	1.0	1.0