Ge薄层异质结构的同步辐射X射线反射法研究

• 作者: 姜晓明 蒋最敏 贾全杰 郑文莉
• 来源期刊: 高能物理与核物理
• 学科: 物理学
• 关键词: 异质结构 同步辐射 X射线反射 表面偏析
• 年，卷（期）: 2001,（12）
• 所属期刊栏目: 同步辐射,核技术应用等
• 页码范围: 1231-1237
• 页数: 7页
• 分类号: O57
• 字数: 3541字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0254-3052.2001.12.016

摘要

用X射线反射方法研究了分子束外延技术生长的Si中Ge薄层异质结构的Ge原子分布特性.根据X射线反射理论及Parratt数值计算方法对实验反射曲线的模拟,得到不同厚度的Ge薄层异质结构样品中Ge原子的深度分布为非对称指数形式:在靠近样品表面一侧的衰减长度为8埃,而在靠近样品衬底一侧的衰减长度为3埃,且分布形式与Ge原子层的厚度无关.讨论了不同结构参数(Ge原子薄层的深度、Ge原子分布范围、样品表面粗糙度、样品表面氧化层厚度等)对样品低角反射曲线的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姜晓明	中国科学院高能物理研究所	21	198	7.0	14.0
2	蒋最敏	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	24	93	5.0	9.0
3	贾全杰	中国科学院高能物理研究所	18	57	3.0	7.0
4	郑文莉	中国科学院高能物理研究所	5	34	1.0	5.0