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摘要:
Al+MgF2膜是真空紫外波段常用的一种反射膜。根据薄膜光学的电磁场理论计算了正入射条件下Al+MgF2膜在真空紫外波段的反射率随氟化镁膜厚度的变化规律。研究了Al+MgF2膜的制备工艺,利用Seya-Namioka紫外-真空紫外反射率计测得Al+MgF2膜的反射率在150nm~340nm的波段上高于80%。Al+MgF2膜制备一年后,其真空紫外波段的反射率未有明显变化。
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文献信息
篇名 紫外-真空紫外波段的Al+MgF2膜
来源期刊 光学精密工程 学科 物理学
关键词 反射膜 紫外 真空紫外 反射率
年,卷(期) 2001,(2) 所属期刊栏目 薄膜光学
研究方向 页码范围 165-168
页数 4页 分类号 O484.41
字数 2124字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1004-924X.2001.02.016
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李福田 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 49 486 13.0 20.0
2 刘颖 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 158 3777 30.0 58.0
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光学精密工程
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1004-924X
22-1198/TH
大16开
长春市东南湖大路3888号
12-166
1959
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