钒化合物稳定剂对锡电沉积过程的影响

• 作者: 周绍民 姚士冰 杨防祖 林飞峰 牛振江
• 来源期刊: 电镀与精饰
• 学科: 工学
• 关键词: 钒化合物 稳定剂 电沉积 酸性镀锡
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 1-4
• 页数: 4页
• 分类号: TQ153.13
• 字数: 2587字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3849.2001.03.001

摘要

研究了Shiff碱型光亮剂的酸性镀锡体系中,钒化合物稳定剂对锡电沉积的电流效率和镀层外观及织构的影响.当稳定剂质量浓度为0.10 g/L时,镀层的光亮范围向低电流端扩展,在2.5～5.0 A/dm2电流密度范围内,电流效率及沉积速度都有所提高.镀层显示β-Sn(101)和(112)晶面的织构,但含钒稳定剂的镀液中得到的镀层,(101)晶面的织构系数降低而(112)晶面的织构系数增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨防祖	厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室物理化学研究所	57	701	16.0	23.0
2	姚士冰	厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室物理化学研究所	13	224	10.0	13.0
3	周绍民	厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室物理化学研究所	47	624	15.0	22.0
4	牛振江	厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室物理化学研究所	4	42	4.0	4.0
5	林飞峰	厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室物理化学研究所	2	20	2.0	2.0