磁场对脉冲离子源镀膜均匀性的影响

• 作者: 严一心 刘卫国 杭凌侠 王季梅 蔡长龙
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲电弧 离子源 磁场 均匀性 薄膜沉积
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 所属期刊栏目: 研究与设计
• 页码范围: 5-7
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.8
• 字数: 1536字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2001.04.002

摘要

介绍了在各种磁场作用下利用脉冲真空电弧离子源镀膜的实验现象和实验结果,在此基础上,主要分析了磁场对脉冲真空电弧离子源镀膜均匀性的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杭凌侠		93	777	15.0	22.0
2	严一心		43	232	9.0	12.0
3	刘卫国		112	575	12.0	17.0
4	王季梅		103	845	16.0	25.0
5	蔡长龙		6	40	3.0	6.0