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真空电子技术2001年第2期出版文献
出版文献量（篇）
2372
总下载数（次）
7
总被引数（次）
8712
真空电子技术
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Vacuum Electronics
影响因子
0.1767
本刊1959年创刊，现为双月刊，国内外公开发行。是真空电子专业协会会刊，电真空情报网网刊，中国真空电子技术领域唯一的综合技术类刊物。设有专家论坛、研究报告、研究与设计、新技术、技术交流、工艺与应用、综述等栏目。主要刊登的是真空微波器件、离子器件真空开关器件等真空电子器件；CPT、CDT、PDP等显示器件和光电器件；照明光源；真空获得、测量、控制；气体分析；表面技术；电子材料及特殊工艺等方面的...
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主办单位：
北京真空电子技术研究所
期刊荣誉：
编辑质量奖
ISSN：
1002-8935
CN：
11-2485/TN
出版周期：
双月刊
邮编：
100015
地址：
出版文献量（篇）
2372
总下载数（次）
7
总被引数（次）
8712
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刊名： 真空电子技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 本文对一种能适应低电压大功率应用需要的毫米波耦合腔行波管的复合型PPM聚焦系统进行了分析，研究了系统中非旋转轴对称性引起的横向磁场，探讨了极靴饱和以及加工和装配误差对聚焦系统的影响，并给出了...
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刊名： 真空电子技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 本文对几种PDP用烧成炉的结构和特点进行了比较和分析；介绍了烧成炉设计时的气氛控制、加热器分布及电气控制方法；对PDP材料的烧成技术、工艺进行了研究和分析；最后从降低生产成本的角度，探讨了烧...
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3. 大屏幕多枪扁平彩色显像管刊名： 真空电子技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 总结了大屏幕多枪扁平彩色显像管原理探索——双枪管的研制成果，分析了进一步研制大屏幕多枪管的主要技术难点，认为作为一种探索，对传统显像管进行改造，寻找一条与非CRT平板显示器竞争的技术通道是很...
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4. 焊料在电子器件中的应用刊名： 真空电子技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 综述了目前在电子器件中常用焊料的组分和性能，指出了该类焊料存在的问题及其今后的研究、发展方向。
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刊名： 真空电子技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 介质保护膜对改善等离子体显示器的工作特性有极其重要的意义。本文概述了一些作为等离子体显示器介质保护层材料的特点，特别是氧化镁薄膜的性质及制备方法，分析了在显示屏制作过程中后工序对氧化镁介质保...
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刊名： 真空电子技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 本文主要介绍微焦点X射线实时成像检测的基本原理、图像质量分析及图像采集与图像处理技术。
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刊名： 真空电子技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 本文是在调查了韩国部分彩管企业以及玻壳、荫罩；彩电等相关工厂的最新产品及技术动态后所写，包括韩电气硝子(HEG)、韩国LG电子、LG微电子(LGM)、三星康宁、三星电管(SDI)，为公司高层...
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刊名： 真空电子技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 分别对W针尖上未组装和组装单壁纳米管进行热处理，然后对所得残气质谱图进行记录和分析。发现在热处理过程中，脱附出一定量的原子C和原子O，然后结合成为CO和CO2被释放出来。
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刊名： 真空电子技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 本文对提高CPT清晰度的平板荫罩设计方法进行了分析。改进的设计保证了节距分布的连续性，提高了管子的分辨率。新设计的管子不用制作新的荫罩成型模具，它的制作也可以在普通彩管的流水线上完成，而且制...
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10. 试验用排气炉控制系统刊名： 真空电子技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 介绍一种以日本岛电的智能调节器，OMRON的可编程序控制器和日电高周波的高频炉为主控设备的彩管试验用排气炉控制系统，分析了加热、冷却、高频振荡、阴极分解、封离全程控制系统的原理和特点。
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11. YAG荧光屏的制作与性能刊名： 真空电子技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 介绍一种YAG荧光屏的结构、制作以及性能。YAG荧光屏不同于传统玻璃荧光屏的一个显著特点就是以具有高热导率、高机械强度、良好绝缘性和透光性的单晶YAG代替玻璃作为荧光屏粉层衬底。我们在YAG...
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刊名： 真空电子技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要：
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刊名： 真空电子技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 详细介绍了一种真空开关管真空度测量及校准方法。这种方法对规范真空开关管行业真空度测量及校准将起积极的作用 。
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14. CRT裕度随配列变化关系的研究刊名： 真空电子技术发表期刊： 2001年2期页码:摘要： 在彩管生产制造中，控制RGB三色荧光粉的间距，即配列，是一项重要的工作。众所周知RGB三色分布均匀时，涂屏裕度和着屏裕度最大。但当配列G率向两边等量波动时，对应的裕度变化速度却不是等量的。因...
真空电子技术基本信息
| 刊名 | 真空电子技术 | 主编 | 廖复疆 |
| 曾用名 | |||
| 主办单位 | 北京真空电子技术研究所 | 主管单位 | 工业和信息化部 |
| 出版周期 | 双月刊 | 语种 |
chi
|
| ISSN | 1002-8935 | CN | 11-2485/TN |
| 邮编 | 100015 | 电子邮箱 | VETECH@163.com |
| 电话 | 010-84352012 | 网址 | |
| 地址 | 北京749信箱7分箱 |
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