光学光刻技术现状及发展趋势

• 作者: 童志义
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 光学光刻 248nm曝光 193nm曝光 折射系统 反射折射系统 设备市场
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 1-9
• 页数: 9页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 8574字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2001.01.001

摘要

综述了光学光刻目前的主流技术—248nm曝光技术现状，介绍了折射式透镜和反射折射式透镜结构及性能。结合193nm技术的开发，比较了2种结构的优势。最后给出了光刻设备的市场概况并讨论了光学光刻技术的发展趋势。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	童志义		11	139	4.0	11.0