氮原子、分子与团簇离子注入Si(111)的特性研究

• 作者: 刘仲阳 唐阿友 师勉恭 廖小东 杨朝文 杨百方 王培录 缪竞威 郑思孝
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氮团簇注入 表面特性
• 年，卷（期）: 2001,（5）
• 所属期刊栏目: 原子和分子物理学
• 页码范围: 860-864
• 页数: 5页
• 分类号: O4
• 字数: 3152字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2001.05.013

摘要

用椭偏仪、傅氏变换红外吸收谱(FT-IR)、X射线光电子能谱(XPS)以及原子力显微镜(AFM)对N+1，N+2，N+10离子高剂量(1.7×1017 ions/cm2)注入Si(111)的表面进行测试分析，发现三种不同尺度的离子注入后，均使Si由复折射率变化为实折射率，表面出现含氮-硅键的介质层.但其表面形貌各异：N+1注入的表面除存在少量点蚀坑外，光洁度最高(平均粗糙度Ra≈4.2nm)，接近未注入前的原始表面(Ra≈3.5nm)；N+2注入的出现黑色枝状区域，光洁度次之(Ra≈16nm)，而N+10注入的则出现“波纹”状结构，光洁度最差(Ra≈40nm).与低能团簇注入相反，在高能条件下，随着离子尺度和注量增加，材料表面的粗糙度也越严重.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	缪竞威	四川大学原子核科学技术研究所	24	45	4.0	5.0
2	杨朝文	四川大学原子核科学技术研究所	55	129	6.0	9.0
3	杨百方	四川大学原子核科学技术研究所	12	16	2.0	3.0
4	师勉恭	四川大学原子核科学技术研究所	16	25	3.0	4.0
5	唐阿友	四川大学原子核科学技术研究所	6	14	2.0	3.0
6	刘仲阳	四川大学原子核科学技术研究所	16	109	7.0	10.0
7	郑思孝	四川大学原子核科学技术研究所	11	59	5.0	7.0
8	王培录	四川大学原子核科学技术研究所	10	59	5.0	7.0
9	廖小东	四川大学原子核科学技术研究所	11	60	5.0	7.0