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摘要:
本文回顾半个世纪以来光电子成像(包括微光成像和热成像)的进展。在微光成像技术方面,叙述了一代、二代和三代像增强技术、真空和固体微光摄像技术、光子成像计数技术的现状和发展;在热成像技术方面,叙述了致冷型一代、二代和三代热成像技术和非致冷型阵列热成像的现状和发展。文中对新世纪的微光四代像增强技术、新型微光摄像技术和热成像技术的发展作了展望。
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文献信息
篇名 光电子成像:回顾和展望
来源期刊 中国计量学院学报 学科 工学
关键词 光电子成像 微光成像 热成像 像增强 微光摄像
年,卷(期) 2001,(2) 所属期刊栏目 特邀报告
研究方向 页码范围 25-29
页数 5页 分类号 TN201
字数 5271字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-1540.2001.02.007
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 周立伟 北京理工大学光电工程系 48 311 8.0 16.0
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节点文献
光电子成像
微光成像
热成像
像增强
微光摄像
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
中国计量大学学报
季刊
2096-2835
33-1401/C
大16开
杭州市下沙高教园
1990
chi
出版文献量(篇)
1770
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9715
论文1v1指导