介质分界面电荷积聚过程分析

• 作者: 汪沨 肖登明 邱毓昌 陈庆国
• 来源期刊: 西安交通大学学报
• 关键词: 绝缘子 表面电荷 电荷积聚
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 页码范围: 347-380,369
• 页数: 5页
• 分类号: TM213
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-987X.2001.04.005

摘要

建立了电压与绝缘子表面电荷分布的动态方程，分析了直流电压作用下表面电荷的积聚过程，并给出了绝缘子表面电荷动态分布的近似表达式．研究表明，以往文献中给出的平板电极结构介质分界面处的表面电荷积聚方程只是文中方程的一个特例．引入了具有长度量纲的电压／场强比例系数，并在此基础上计算了3种典型电极算例的表面电荷分布，理论计算结果与以往文献的实验结果基本吻合．

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邱毓昌		228	4719	36.0	54.0
2	汪沨		20	479	13.0	20.0
3	陈庆国		18	320	11.0	17.0
4	肖登明		4	94	3.0	4.0